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GSL-1100-JS-260高真空磁控溅射镀膜仪
产品型号:

GSL-1100-JS-260

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GSL-1100-JS-260是一款桌面型的高真空磁控溅射镀膜仪,仪器具有占地空间小,操作方便,稳定性能高,维护成本低,可用范围广等优点。可用于溅射铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

非常适用于各大科研院所及高校进行薄膜新材料的科研与小批量制备。还可以根据自身需求选择定制化服务,比如:样品台的形状和运动轨迹。手套箱的兼容,样品仓的大小等。

安装条件

选择一个合适的仪器摆放位置:

1. 放置GSL-1100-JS-260高真空磁控镀膜仪在一个长130cm,宽60cm的平面桌子上(桌子的承重需要在200KG以上);

2. 放置“外置 旋转机械真空泵”及“冷水机”在一个合适的位置(地面 / 靠近镀膜仪主机);

3. 系统总重量(镀膜仪、电器柜、选装泵、冷水机)约为208~240KG(选配不同),请确保有4人一起移动 / 搬运仪器;

4. 仪器的使用 / 运行环境温度为15~25摄氏度,相对湿度不超过75%;

5. 为仪器提供一个220V,16A的空开。

6. 确保使用 / 运行环境有足够的通风,并且避免阳光直接照射到仪器。

7. 氩气和氩气瓶解压阀需自备。

主要参数

1. 仪器主机尺寸:长610mm×宽420mm×高220mm(注:含腔体总高490mm)  

2. 工作腔室尺寸:金属腔体:直径260mm×高270mm(外尺寸 )          

                           直径210mm×高270mm(内尺寸)             

3. 靶头:标配:单靶                                                

         选配:双靶                                                    

4. 靶材尺寸:直径50mm×厚3mm(因靶材材质不同厚度有所不同)     

5. 靶材料: 标配一块直径50mm×3mm的铜靶                        

6. 靶枪冷却方式:水冷                                                

7. 靶头工作方式:各靶可独立/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜;     

8. 真空系统:分子泵+直联高速旋片式真空泵,抗冲击涡轮分子泵,抽速为 300L/s              

9. 极限真空度: 5×10-5Pa(10分钟可到5×10-3Pa)                     

10. 电源:标配:直流恒流电源:输入电压:220V                        

输出电压:0-600v        

输出电流:0-1.6A                       

选配:射频电源和匹配器一体机:功率500W。               

11. 载样台:可旋转,直径200mm,0-20转/分钟(可调)                     

12. 工作气体: Ar等惰性气体(需自备气瓶及减压阀) 

13. 气路: 气路可以通过电磁流量阀触摸屏与手动阀联动控制。       

14. 水冷:自循环冷却水机                                      

15. 控制系统 :配置VPI液晶控制系统。可智能控制系统操作。操作简单,人机界面良好。                                     

16. 均匀性 :靶材均匀度直径50mm内,金属类膜厚均匀度可达±3%    

17. 膜厚仪(选配): 膜厚仪监控范围0~6000纳米。可监控速率0.001纳米/秒。与触 摸屏程序操作相结合,可联动控制,监测膜厚。  

18. 可镀材料:铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

19. 电源电压:220V 50Hz                                           

20. 启动功率:3KW 

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