GPM-1000S-II双盘自动压力研磨抛光机采用单片机控制的研磨抛光设备，机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用:采用高清LCD触摸屏操控和显示,操作简便,清晰直观。牢固的铸浇支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度;磨盘无级调速，可切换旋转方向;磨头加压支持中心压力和单点气动两种模式,采用进口比例阀,压力稳定。电机为磁浮电机，使用寿命长且噪音低，强大的电机扭力带来强大的动力，具备高效的研磨抛光体验:主轴防漏设计，确保了几乎不会损坏的轴承;配备冷却水管，可调整旋转方向进行湿磨:磨盘采用大规格浇制铝盘独特的磁性设计，支持快速换盘，磨抛盘和垫盘表面经特氟龙处理，无砂纸抛光布黏连残留:磨头采用电动锁紧装置，具备定时功能，方便快捷。双盘设计，一边可自动磨抛，另一边可手动操作。

试样件安装后点击启动按钮自动出水后磨盘开始运转，磨抛工作结束后自动停水及磨头自动上升。本机研磨系统可有效代替手工磨抛各道工序，试样夹持数量6个，大大节省劳动力，提高磨抛质量和制样效率，是自动金相制样设备理想之选。

覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛机。主要用于  硅、碳化硅、氮化镓、锑化镓、磷化铟、砷化镓、碲锌镉、碲镉汞、铌酸锂等多种材料芯片的研磨减薄，底面、表面、端面的化学机械抛光等。本机体积小，节省实验室空间，操作简单，清理方便，适合初学人员的使用，尤其适用于各大高校的实验室、科研院所、及各企业的实验室的使用。

l整机采用高清LCD触摸屏操控和显示，操作简便，清晰直观

l中心压力、单点压力两种运行模式,可根据具体情况选择最合适的方式

l自动研磨系统，可定时定速，水系统自动启闭功能，有效代替手工磨抛

l独特磨盘自适应设计,使得试样与磨盘完美贴合修正,有效解决多面现象，保障研磨表面一致

l磨头电磁锁自动落锁功能，安全便捷

l磁性盘设计,支持快速换盘,垫盘喷涂特氟龙,更换砂纸抛布无残留

l双盘设计,可独立操作效率更高

l样品固定盘可快速装卸转换并灵活更换不同口径夹盘,可拆卸易于清洗

l磁浮电机，使用寿命长，超静音体验

l可存储十多种磨抛程序,针对不同试样，设置不同的参数